영창케미칼(112290)이 국내 기업 최초로 EUV(극자외선) 반도체 노광 공정용 린스 개발을 앞두고 있다.
영창케미칼은 해당 공정에 대한 테스트 막바지 단계에 들어섰으며, 연내에 시제품 공정 테스트를 완료해 본격적인 상업 생산을 개시하고 글로벌 시장에 진출할 계획이라고 밝혔다.
특히 이 제품은 독일 M社와 상용화 경쟁이 치열한 제품으로, 영창케미칼의 EUV 반도체 노광 공정용 린스 개발은 국내 기업으로는 첫 사례다. 영창케미칼은 글로벌 시장 확대 및 빠른 시장 선점을 위해 생산 설비 투자 및 증설을 추진 중이며, 상용화 이후 지속적인 매출 확대 및 수익성 증대가 가능할 것으로 기대하고 있다.
‘EUV 반도체 노광 공정용 린스’는 포토레지스트 웨이퍼 노광 공정 후 노광 패턴 결함 및 붕괴를 감소시키는 기능성 세정제로, 반도체 생산 수율에 결정적인 영향을 미치는 제품이다. 포토레지스트(PR. Photoresist)는 반도체 웨이퍼와 디스플레이 박막 트랜지스터 표면 등에 미세 회로를 형성하기 위해 사용되는 감광반응 물질이다.
EUV는 불화아르곤(ArF) 광원 대비 파장 길이가 14분의 1로 짧아 1나노미터(nm) 수준의 세밀한 패턴 제작이 가능하고 공정 수가 적어 생산성도 높일 수 있기 때문에, EUV 반도체 공정은 향후 10여 년간 반도체 산업의 핵심 공정이 될 것으로 예상된다. 이에 따라 EUV 반도체 노광 공정용 린스는 이 공정의 주요 소재로서 시장이 지속 확대될 것으로 전망된다.
영창케미칼 관계자는 “실제로 EUV 노광 장비 글로벌 독점 기업인 A社는 지난해 42대의 장비를 공급했는데, 올해는 55대, 내년에는 60대까지 공급량이 늘어날 것으로 내다보고 있다”면서 “EUV 노광 장비 확대는 EUV 노광 린스 수요 증대로 이어지므로, 영창케미칼은 올해 초도 매출을 시작으로 지속적인 매출 확대를 이어갈 수 있을 것”이라고 강조했다.
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