EV 그룹(EVG)은 나노종합기술원(NNFC)과 나노 이니쉐이티브 (NI: Nano Initiative)와 공동으로, 현재 초기 결과들을 비롯해 디스플레이를 위한 개선된 투명 나노 구조화 반사-방지 코팅(nanostructured anti-reflective coating)을 생산하기 위한 공동개발프로그램 (JDP)의 제시 방향을 발표했다.
공동개발프로그램을 진행해온 3사 협력사들은, 대부분의 고분자 코팅(polymeric coatings) 보다 우수한 97 퍼센트 이상의 투과율과 표면경도 3H를 제공하는 뛰어난 구조 복제의 반사방지 코팅(nanostructured anti-reflective coating)을 성공적으로 입증했다. 이와 대조적으로, 현재 박막광학 코팅(thin-film coatings) 기술은 92 퍼센트의 투과율만 제공한다.
3사 협력사들은 디스플레이 코팅의 상용기술 기준에 최적화 된 NI의 고분자 소재 재료를 이용한 200mm 글래스 웨이퍼에 임프린트(imprint)를 위한 EVG사의 독자 기술 인 SmartNIL™ UV-NIL(nanoimprint lithography) 기술을 적용하여 이러한 성과를 달성했다.
2015년 11월에 착수된 공동개발프로그램은 초기 생산 규모를 쉽게 확장할 수 있는 나노 구조용 제조 공정을 추가하여 고분자 재료를 기본으로 대면적 디스플레이를 위한 새로운 나노 구조화 반사-방지 코팅(nanostructured anti-reflective coating)을 개발하기 위해 2년간 운영할 목적으로 처음 출범했다.
이 프로그램의 다음 단계로, EVG, NNFC, NI는 EUREKA 프로젝트에 착수할 계획이며, 이 프로젝트에 최종 사용자도 참여할 수 있도록 기회를 확장했다. JDP연구 기관인 NNFC는 Gen 2 (370 mm x 470 mm) 패널들처럼 대면적의 대량 패널 제조 실현이 가능 할 수 있도록 산업 파트너들에게 새로운 반사-방지 코팅 기술을 전수할 계획이다. 이번 특정 프로젝트뿐 만 아니라, 3사의JDP 협력사들은 나노 구조와 NIL 기술이 필요로 하는 다른 응용 분야를 조사할 계획이다.
EVG, NNFC와 NI는 공동개발프로그램에 대한 결과를 7월 13일부터 15일까지 경기도 고양시 한국국제전시장 (KINTEX)에서 개최되는 NANO KOREA 심포지엄 및 전시회에서 선보일 예정이다.
EV그룹의 SmartNIL은 UV-NIL 기술에 최적화 되어있고, 이는 EVG의 복수 사용이 가능한 소프트 스탬프 기술과 함께 다양한 첨단 소자를 위한 저 비용, 대 면적 및 대량 생산 제조 솔루션에 적합하다. 이는 구면 및 비구면 렌즈, 회절 광학 소자, 광자 결정 및 기능성 광학 필름 등의 다양한 광학 형상을 복제 할 수 있다.
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