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씨앤지하이테크, 케미컬 공급 장치/소재/플랜트 일류 기업으로 비상

기사입력 : 2018년 01월 11일 20시 46분
ACROFAN=류재용 | jaeyong.ryu@acrofan.com SNS
씨앤지하이테크(대표이사 홍사문)는 11일 여의도에서 홍사문 대표이사 및 주요 임직원이 참여한 가운데 기자간담회를 열고 코스닥 상장 계획 및 향후 비전을 밝혔다.

씨앤지하이테크는 독보적인 기술력을 기반으로 성장한 기업이다. 초정밀 유량 제어 기술, 정밀 농도 관리 기술, 실시간 혼합 기술 등 핵심 부문에 걸친 31건의 특허를 확보하고 있다. 또 3차원 설계, SW 기술 등 시스템 요소 부문의 원천 기술을 보유해 제품 개발 및 생산을 주도하고 있다. 반도체 업계 1세대로 구성된 전문 경영진과 60명 이상의 전문 엔지니어 역시 중요한 자산이다.

2003년에는 완전히 새로운 방식의 화학약품 혼합 중앙 공급 장치를 업계 최초로 개발했다. 기존 장치는 중앙에서 각 세정 장비에 원액을 보내 간이 혼합하는 방식이었으나, 씨앤지하이테크는 중앙에서 화학약품을 일괄 혼합해 공급하는 초정밀 혼합 공급 장치를 개발했다. 이 방식은 장비간 농도 및 온도 편차를 없애 생산성과 품질 향상에 크게 기여하며, 전체 장치 가격도 절감할 수 있어 업계에 반향을 일으켰다.

현재 유수의 반도체·디스플레이 글로벌 기업에 제품을 공급하고 있다. 주요 고객사는 삼성전자, SK하이닉스, 삼성디스플레이, BOE 등이다. 2003년 새로운 화학약품 중앙 공급 장치를 삼성전자에 제안해 채택된 이후 제품 공급 지속 및 고객사 다각화를 진행해왔다. 독보적인 기술력은 물론, 높은 품질과 철저한 납기일 준수, 프로젝트 기간 단축 등을 통한 신뢰 구축이 있어 가능한 행보다.

2016년 매출액 443억 원, 영업이익 65억 원을 기록했으며, 2017년 3분기(누적) 이미 전년 연간 실적을 뛰어넘는 매출액 612억 원, 영업이익 80억 원을 달성해 시장의 이목을 끌고 있다.

향후 전세계적인 반도체·디스플레이 산업 투자 확대에 힘입어 화학약품 혼합 공급 장치 매출이 확대될 전망이다. 특히 기술 발전으로 인한 공정 미세화 및 생산 CAPA 향상에 따른 화학약품 사용 증가로 대용량 장치 수요가 크게 늘어날 것으로 기대된다. 씨앤지하이테크는 전방산업 확대를 기반으로 꾸준히 성장할 전망이며, 특히 일본 나가세산업과 협력 강화를 통해 중국 시장을 확대할 방침이다.

또 안정적 성장을 위해 소재 및 플랜트 부문 신사업을 추진할 계획이다. 먼저 전량 수입되고 있는 약품 탱크 라이닝시트를 국산화한다. 일본 D사와 협업해 생산 공정을 일부에서 전 단계로 점차 확대할 계획이다. 2018년 3분기 국산화 라인설계 및 설비 도입, 2019년 자체 생산을 예정하고 있다.

중장기적으로는 플랜트 사업을 추진한다. 디스플레이 세정 후 발생하는 대량의 현상폐액을 회수, 정제해 재활용하는 사업이다. 디스플레이 제조 물량 증대에 따라 각종 제조공정 현상폐액 발생량이 증가하고 있으며, 이는 생태독성물질을 다량 포함하고 있어 처리 비용 부담이 크다. 핵심 기술을 가진 미국 S사, 일본 N사와 2018년 합작법인을 설립하고 2019년부터 현상폐액 재생 플랜트를 설치, 운용할 방침이다.

홍사문 씨앤지하이테크 대표이사는 “화학약품 초정밀 혼합 공급 장치 사업 매출 확대 및 신사업 추진을 통해 케미컬 공급 장치/소재/플랜트를 아우르는 일류 기업으로 성장할 것”이라며 “끊임없는 변화와 혁신을 통해 산업 발전에 기여하는 것은 물론 세상의 안전과 환경 보전을 이루는 글로벌 기업이 되겠다”고 포부를 밝혔다.

한편 씨앤지하이테크는 이달 16~17일 청약을 거쳐 25일 코스닥 시장에 상장할 예정이다. 공모 예정가는 1만 6천 원~2만 원이며 상장예정주식수는 420만 2,740주다. 대표 주관사는 신한금융투자다.

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